Stochastic simulation of nanowire growth in plasma-assisted molecular beam epitaxy

Авторы: 
Sabelfeld, K. K.; Kablukova, E. G.
Тип публикации: 
Публикации в рецензируемых журналах
Вхождение в реферативные базы данных: 
WoS
Год выхода: 
2016
Выходные данные: 
Stochastic simulation of nanowire growth in plasma-assisted molecular beam epitaxy Sabelfeld, K. K.; Kablukova, E. G. Source: Computational Materials Science Volume: 125 Pages: 284-296 Published: DEC 2016